電子特種氣體是指用于半導(dǎo)體、平板顯示及其它電子產(chǎn)品生產(chǎn)的特種氣體。IC制造主要包括清洗、沉積/CVD、光刻、刻蝕、離子注入、成膜等工藝，從單個(gè)芯片生成到最后器件的封裝，幾乎每一個(gè)環(huán)節(jié)都離不開(kāi)電子氣體，因此電子氣體被稱為半導(dǎo)體材料的“糧食”和“源”。

在微電子、光電子器件生產(chǎn)過(guò)程中，電子氣體成本占IC材料總成本的5%～6%，雖然看似占比不大，但在很大程度上決定了半導(dǎo)體器件性能的好壞。電子氣體純度每提高一個(gè)數(shù)量級(jí)，都會(huì)極大地推動(dòng)半導(dǎo)體器件質(zhì)的飛躍。

半導(dǎo)體行業(yè)用電子特氣

清洗：Cl₂、ClF₃、NF₃、C₂H₆、SF₆、HCl等

沉積：NH3、N2O、TEOS、SiH4、NO、WF6

光刻：Ar、F2、Ne、Kr、He等

刻蝕：NF3、C4F8、COS、CF4、C3F6、HF、 CH3F、SiF4、SF6、BF3等

離子注入：BF3、B2H4、AsH、TEB、TEPO、PH3

外延：HCl、SiH2Cl2、SiHCl3等

科哲電子特氣清洗用閥門(mén)

氯氣CL2

特氣閥門(mén)：BF200 CGA DISS728-3/4NGT 適用氣體：CL2

特氣閥門(mén)：BF200A-CGA DISS728-3/4NGT 適用氣體：CL2

三氟化氮NF₃

NF3是在微電子制造中的一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體和CVD清洗氣體。在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時(shí)也是非常良好的清洗劑。

特氣閥門(mén)：BF200 CGA670 3/4NGT  適用氣體：BrF5、BrF3、HF、NF3

特氣閥門(mén)：BF200 CGA670 PZ27.8 適用氣體：BrF5、BrF3、HF、NF3

特氣閥門(mén)：BF200 CGA DISS640 3/4NGT 適用氣體：NF3

C₂H₆

特氣閥門(mén)：BF200-CGA350 3/4NGT 適用氣體：CO、H2、C2F2H2、C2H6

特氣閥門(mén)：BF200-CGA510 3/4NGT 適用氣體：C4H10、C2H6O、C4H8

特氣閥門(mén)：BF200-JIS22LH 3/4NGT 適用氣體：BF3、CO、C2H6、C2H4、H2、Xe

特氣閥門(mén)：BF200-JIS22LH PZ27.8 適用氣體：BF3、CO、C2H6、C2H4、H2、Xe

特氣閥門(mén)：BF200-JIS26LH 3/4NGT 適用氣體：CIF3、C2H6O、C2CIH5、Xe

特氣閥門(mén)：BF200-JIS26LH PZ27.8 適用氣體：CIF3、C2H6O、C2CIH5、Xe

特氣閥門(mén)：BF100-CGA350 3/4NGT  適用氣體：CO、H2、C2F2H2、C2H6

科哲（上海）閥門(mén)有限公司位于上海市金山區(qū)。公司于2012年初成立研發(fā)團(tuán)隊(duì)，歷經(jīng)多年的不懈研發(fā)和技術(shù)提升，實(shí)現(xiàn)了電子特氣不銹鋼閥門(mén)的國(guó)產(chǎn)化、專業(yè)化和先進(jìn)化。公司于2022年獲得了上海市高新技術(shù)企業(yè)證書(shū)，于2023年獲得上海市專精特新和創(chuàng)新型中小企業(yè)的認(rèn)定。公司擁有自有知識(shí)產(chǎn)權(quán)，發(fā)明專利、實(shí)用新型專利、注冊(cè)商標(biāo)、軟件注冊(cè)等四十余項(xiàng)專利，并通過(guò)了質(zhì)量體系認(rèn)證，建立了完善的質(zhì)量管理體系和專業(yè)的技術(shù)與生產(chǎn)團(tuán)隊(duì)。為了給客戶提供更全面、更可靠的產(chǎn)品及服務(wù)，公司于 2023年完成首輪戰(zhàn)略融資，借助資本的優(yōu)勢(shì)，努力完善公司的綜合服務(wù)能力，為下一步快速發(fā)展，積蓄力量。

近年來(lái)半導(dǎo)體及電子特種氣體行業(yè)得到了大力發(fā)展，不銹鋼閥門(mén)作為電子特氣包裝物的關(guān)鍵部件，長(zhǎng)期受限于國(guó)外產(chǎn)品，始終并未得到解決。我公司針對(duì)不銹鋼閥門(mén)在半導(dǎo)體及特氣行業(yè)的不斷投入、潛心研究，突破了國(guó)外技術(shù)壁壘，填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)不銹鋼閥門(mén)在電子特氣使用上的空白。在笑氣、氦氣等大多數(shù)惰性氣體，以及氯化氫、硫化氫、溴化氫、三氯化硼、羰基硫、磷烷、硅烷等腐蝕性氣體和其他危害性氣體閥門(mén)上做出國(guó)產(chǎn)化替代，有效改善了不銹鋼閥門(mén)完全依賴進(jìn)口的狀況。